射频溅射沉积（关于射频溅射沉积简介）

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1、 射频溅射沉积，亦称“溅射镀膜”。

2、金属表面涂层技术之一。

3、属气相沉积方法。

4、将涂覆用材料制成靶作为阴极,被离子轰击后溅射出原子或分子,在电场作用下沉积于被镀工件(底材)表面形成薄膜。

5、射频溅射是用高频电磁场来维持辉光放电,产生轰击离子使溅射不断进行。

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